镭射原理介绍

　　• 镭射是指藉由激励放射进行光放 大作用所产生的光线。镭射是一 种光学振荡放大的光线，它输出 的所有光子具有相同的相位、方 向与振幅，所以具有高强度、方 向性、单旋光性与同调性等特质。

镭射应用范围

　　• 镭射技术迅速的发展，因此在许多 方面获得了广泛的应用，应用实例包 括IC包装印码、计算机键盘、移动电话 按键、金属产品、电子零件、卫浴 设备、半导体芯片、条形码雕刻、汽车 音响面板、金属笔雕刻、礼品加工、 扫描、镭射雷达、镭射位移计、镭射 干涉仪等，机械工业上镭射的 运用日益普遍，究其用途，不外乎加 工与量测两大类。

镭射雕刻的认识(1)

　　• 所谓镭射雕刻为机械以镭射光在 物体表面作雕刻之动作, 依镭射 光之功率的不同, 及镭射光光束 密度之不同, 可以产生各种不同 之效果

镭射雕刻的认识(2)

　　• 镭射雕刻可将塑料材质烤漆或电 镀之表面气化, 而显现材质原色 或让其有透光效果, 且雕刻层已 达材质内部, 故不会像印刷一样, 因经常触摸而脱落.